公司现在研发的半导体设备,就是第三代光刻机。
在这里,有须要介绍一下光刻机的生长历程。
首先是光刻机的代际划分,其实是按光源算的,波长越短越先进。第一二光刻机划分是接触、接近式光刻机,光源是差异类型的汞灯,但一个产物不良率高,一个要用到介质容易影响成像,都不太理想。
直到第三代,光源改成了氟化氪准分子激光,事情方式酿成了扫描投影光刻。一旦完成研发,制程最低将缩小到...
公司现在研发的半导体设备,就是第三代光刻机。
在这里,有须要介绍一下光刻机的生长历程。
首先是光刻机的代际划分,其实是按光源算的,波长越短越先进。第一二光刻机划分是接触、接近式光刻机,光源是差异类型的汞灯,但一个产物不良率高,一个要用到介质容易影响成像,都不太理想。
直到第三代,光源改成了氟化氪准分子激光,事情方式酿成了扫描投影光刻。一旦完成研发,制程最低将缩小到...