以学部委员黄坤、王首武和邓国辉为首的十二名光刻机半导体专家组成的专家判定组，通过现场测试，专家组组长黄坤亲自书写判定陈诉。
京城半导体设备股份有限公司研发乐成的光刻机双事情台系统，在现场，对磁悬浮式双事情台系统进行了十次测试，能提升芯片制程工艺精度15%，提高芯片生产效率35%，另有不停提升的潜力，这项发现在光刻机专利技术中属于世界首创，属于重大焦点技术发现，强烈推荐申请公司发现...
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