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新科学时代

第114章 革新方案

新科学时代 康泓 2270 2020-09-12 21:58:34

  郭一连续好几天都在A1厂出没,寻找这可以提升芯片制造工艺的要害点。

  质料热膨胀相互的影响,光的衍射对于光刻的影响,线宽控制的几个通例革新,光学近距效应修正,硅片平台水平控制的要害因素,光刻胶涂胶工艺的革新……

  ……

  随着每天在工厂观摩推演芯片制造的整个流程,郭一的小本本上记满了种种可以对工艺有明显革新的要领。

  “安叔,召集工程师们,开会。”

  郭一虽...

康泓

另有一章,会稍晚一些,但会在12点之前。

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