第一百零四章
正所谓,数理化不分居。
顾律是数学和物理的双料博士,没有理由,化学能够差到哪去。
纳米二氧化铈粉末的制备,很是简朴。
首先,称取一定量的Ce(NO3)3-6H2O 和六亚甲基四胺,配置成1:5的混淆液。
第二步,混淆液置于75摄氏度恒温水箱中水浴保温半小时。
第三步,在室温情况下陈化,用离心法疏散沉淀。
最后一步,将沉淀洗涤后置于真空干燥箱中,在80摄氏度下烘干。
这样,经过以上四步之后,就可以获得纳米二氧化铈超细粉体。
二氧化铈粉体呈球形,径粒漫衍较均匀,径粒约为10纳米。
更重要的是,二氧化铈质地较为柔软,作为抛光磨料再也适合不外。
穿着好白色的实验服,戴妙手套口罩,顾律有条不紊的开始操作。
快要一个小时后,顾律提着一个蓝色的塑料小瓶,走出房间。
“顾先生,怎么样?”一直在门外期待的林经理走上前来问道。
“一切顺利。”顾律摘下口罩,笑呵呵的把手中的塑料瓶递给张经理,“我把实验服换下来,然后我们再一块去楼下车间试试效果。”
…………
几分钟后,顾律和张经理两人再次走进车间。
黄师傅拿着一块硅晶片板,一脸苦笑的走过来,“和顾先生说的一样,这次的精度测试和之前相同,外貌粗拙度都在1纳米以上。”
顾律接过那块硅晶片,放在手中翻转仔细看了一下,然后用手指感受了一下触感,点颔首,“应该就是抛光液的原因,正好二氧化铈抛光液已经制备出来了,再上机试一下吧。”
“我想这次,结果肯定会和之前大不相同的。”顾律嘴角上扬,语气中带着无比的自信。
抛光机夹持住硅晶片,接着放入纳米二氧化铈粉末抛光液,最后,按下启动按钮。
机械开始运转。
顾律抱着胳膊,双眼紧盯着仪器。
同时,脑海中不停回忆着在普林斯顿大学图书馆中,看过关于这方面的内容。
在单硅晶片的化学机械抛光历程中,是主要存在化学腐蚀作用和机械磨削作用。
质料的去除,首先源于化学腐蚀作用。一方面,在抛光历程中,硅片外貌局部接触点发生高温高压,从而导致一系列庞大的摩擦化学反映。
纳米二氧化铈抛光液,其具有较高碱性组分和较柔软的纳米磨料颗粒。
在这两者作用下,使硅片外貌形成腐蚀软质层,从而有效地削弱磨料对硅片基体的刻划作用,提高抛光效率和抛光外貌质量,相应的,提高抛光后硅晶片的精度。
…………
半个小时的时间,一晃眼就已往。
机械和硅晶片摩擦的声音逐渐减小,直到消失。
设备停下后,张经理和黄师傅齐齐把目光看向顾律。
顾律笑了笑,“拿出来吧。”
黄师傅小心翼翼的将通过使用二氧化铈抛光液制得的硅晶片取出来。
“你们用什么设备看?”顾律扫视了一眼,发现这边并没有显微镜之类的设备。
“楼上有一台原子力显微镜。”张经理笑着开口。
原子力显微镜?
顾律知道,这玩意似乎贵的很。
再次回到那栋五层小楼,不外那台原子力显微镜就在一楼,倒是省去了爬楼的功夫。
走进那栋十几平的小房间,顾律一眼就看到了张经理口中所说的那台原子力显微镜。
“米国DI公司产的Mutimode SPM版原子力显微镜?”在实验室待过一段时间的顾律,一眼就认出来。
“你们买的?”顾律扭头看向张经理。
据他所知,这台显微镜可不自制,市场价,或许在二三十万元!
就算是大部门高校的实验室,都买不起这台设备。
张经理苦笑着摇摇头,“租的。”
顾律:“……”
好吧,看这家公司连买二十多万的抛光机设备都心疼成这样子,让他们买一台二十多万的显微镜险些不行能。
但租的话……似乎也不自制啊!
顾律凑近显微镜看了一眼。
“这是个残次品。”还未等顾律看出来什么,张经理主动问顾律解释,“这台是淘汰下来的,几百块钱一年,很自制,我们就租下来了。”
顾律:“……”
真的是绝不羞愧的直接认可下来了呢。
张经理似乎并不在意认可自己公司就是穷的一个事实。
“咳咳。”顾律尴尬的咳嗽了一下,“我们照旧抓紧时间看一下数据吧。”
“顾先生,我来,照旧你来。”黄师傅双手捧着那块硅晶片。
顾律戴上手套,搓搓手,“我来吧。”
原子力显微镜,回国之后顾律已经很久没有摸过了。
好不容易有这个时机,顾律照旧蛮想过过手瘾的。
顾律拉过一把椅子,脸上带着淡淡的期待坐下。
然后打开光源,小心翼翼的把显微镜移到自己面前。
不外,顾律很快就忏悔了。
怪不得张经理说这台显微镜是个残次品。
特么的实在是太坑了啊!
顾律这边移动一下探针,显示器那边,足足卡了快要三十秒,才弹出一个数据。
移一下,卡三十秒,移一下,卡三十秒。
这三十秒里,顾律就和那一闪一闪的显示器大眼瞪小眼。
光是调试设备,顾律就用了十多分钟。
“顾先生,这台显示器有点不太灵敏,所以,有时候,要接纳一些传统暴力手段。”黄师傅在一旁讪笑一下,然后走上前,右手成掌,猛地一下拍在显示器上。
砰——!
沉闷的声音响起,显示器画面模糊一下后,瞬间浮现出最新的数据。
顾律:“……”
这方式,确实够传统!
显示器卡顿怎么办,多数是欠揍了,拍一下就好啦!
于是,在稍显闭塞的房间里,泛起了一副顾律猛拍显示器的画面。
和显示器折腾了半小时后,屏幕上终于显示出这块硅晶片的数据。
Ra=0.089,RMS=0.113.
在1微米*1微米规模内,微观外貌的粗拙度,降低到惊人的0.089纳米。
比之前测得的最低值1.06纳米,足足降低了12倍!
…………
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